「究極の露光」実用化に進展、ギガフォトン出力２５０ワット達成
2016/07/25
2016/07/08 日経産業新聞より引用
おはようございます、月光です。今朝は半導体露光機の光源を支えるギガフォトン株式会社の記事を紹介します。
◆記事概要
●コマツ子会社で半導体露光用の光源装置を手掛けるギガフォトン（栃木県小山市、都丸仁社長）は「究極の露光技術」と呼ばれるＥＵＶ（極端紫外線）露光装置の光源で、実用化に必要とされる出力２５０ワットを達成したと発表した。
●現時点では同出力を維持できる時間は短く、今後は出力を長期間安定させる技術の開発に焦点を移す。
●ＥＵＶは波長が極めて短く、従来の露光装置では不可能だった微細回路を１回の処理で描ける。微細化が進めば半導体の省エネ、高速化、小型化がさらに進む。
●ただ投資に見合う毎時１２５枚の生産速度を実現するには、光源を２５０ワット以上で安定稼働させる必要があるとされ、実用化への最大の障壁となっている。ギガフォトンは１３０ワット以上で約５日間連続運転させる実験にも成功し、一定の成果を上げた。
●現在、ＥＵＶ露光装置本体の開発に取り組んでいるのはオランダのＡＳＭＬのみだ。
●ギガフォトンは発光効率を高めるのに有利な技術を持つ。高出力化でＡＳＭＬ製に対抗できる製品の開発を目指す。
★コメント
半導体デバイスの微細化にとって最も重要な露光機の究極ＥＵＶ露光、光源波長が短ければ短いほど微細なパターンを焼く事が出来る。量産装置だとKrF(波長は248nm)、ArF(同193nm)、ArF液浸(同134nm)とあるのに対しEUVは波長13.6nm！ずば抜けている。 ＥＵＶ露光を用いれば回路線幅9nm達成可能だ。
最大の課題はスループットである。スループットを上げるには高出力の安定稼働が必須である。
さらに安定性を高められれば半導体の新たなブレークスルーになること間違い無しだ！
最先端で日本ものづくりの優位性を示して欲しい。
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